Depunerea chimică în vapori a tungstenului și siliciurilor de tungsten pentru aplicații Vlsi/ ULSI

Titlul original:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Conținutul cărții:

Această monografie condensează literatura de specialitate relevantă și pertinentă privind CVD general și selectiv de tungsten (W) într-un singur volum ușor de gestionat.

Cartea oferă cititorului informațiile de bază necesare pentru punerea în funcțiune, reglarea fină și menținerea cu succes a unui proces CVD-W într-o instalație de producție. Sunt descrise chimia depunerii materialelor, echipamentele, tehnologia proceselor, evoluțiile și aplicațiile.