Recenzii ale cititorilor
Rezumat:Recenzile cărții evidențiază excelența acesteia ca resursă pentru studierea științei plasmei și actualizările sale aprofundate privind principiile procesării plasmei. Cartea este bine scrisă și considerată ca fiind una dintre cele mai practice și cuprinzătoare din domeniu.
Avantaje:Bine scris, conținut complet și actualizat, foarte informativ pentru fizica și ingineria plasmei, ușor de înțeles, resursă cuprinzătoare, must-have pentru studenții și profesioniștii din domeniul științei plasmei.
Dezavantaje:Nici un contra specific menționat în recenzii.
(pe baza a 5 recenzii ale cititorilor)
Titlul original:
Principles of Plasma Discharges and Materials Processing
Conținutul cărții:
O actualizare amănunțită a clasicului industriei privind principiile procesării plasmei.
Prima ediție a Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, publicată cu peste un deceniu în urmă, a fost lăudată pentru tratamentul său complet atât al fizicii de bază a plasmei, cât și al procesării industriale a plasmei, devenind rapid referința principală pentru studenți și profesioniști.
Ediția a doua a fost atent actualizată și revizuită pentru a reflecta evoluțiile recente din domeniu și pentru a clarifica în continuare prezentarea principiilor de bază. Împreună cu acoperirea aprofundată a fundamentelor fizicii și chimiei plasmei, autorii aplică teoria de bază la descărcările de plasmă, inclusiv calculele parametrilor plasmei și scalarea parametrilor plasmei cu parametrii de control.
Subiectele noi și extinse includ:
* Secțiuni transversale actualizate.
* Difuzie și soluții de difuzie.
* Criterii Bohm generalizate.
* Tratamentul extins al învelișurilor de curent continuu.
* Sonde Langmuir în câmpuri variabile în timp.
* Descărcări electronegative.
* Descărcări cu putere pulsată.
* Descărcări cu frecvență dublă.
* Teci de rf de înaltă densitate și distribuția energiei ionilor.
* Histerezis ș i instabilități.
* Descărcări Helicon.
* Descărcări cu catod gol.
* Depuneri fizice de vapori ionizați.
* Încărcarea diferențială a substratului.
Cu noi capitole privind plasmele cu praf și teoria cinetică a descărcărilor, studenții absolvenți și cercetătorii din domeniul prelucrării plasmei ar trebui să găsească această nouă ediție mai valoroasă ca niciodată.
